每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：公司之前提到過已有光刻對準(zhǔn)檢驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品并中標(biāo)過上海新微半導(dǎo)體采購項(xiàng)目，請問光刻對準(zhǔn)檢驗(yàn)機(jī)載半導(dǎo)體光刻各流程環(huán)節(jié)中起什么作用？國產(chǎn)替代前景如何？謝謝

天準(zhǔn)科技（688003.SH）9月12日在投資者互動平臺表示，MueTec于2021年中標(biāo)上海新微套刻誤差量測設(shè)備。套刻（Overlay）誤差量測設(shè)備主要用于量測半導(dǎo)體制造工藝中前后疊層之間對準(zhǔn)的套刻誤差，MueTec的套刻（Overlay）誤差量測設(shè)備可覆蓋65-90nm工藝節(jié)點(diǎn)，目前公司蘇州團(tuán)隊(duì)和MueTec團(tuán)隊(duì)正在合作開發(fā)更先進(jìn)制程的套刻誤差量測設(shè)備。

(記者 蔡鼎)

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